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发布时间:2025-07-11 12:46:18  来源:阳光食品加工有限公司

北京图3.Ti负载g-C3N4氮空位催化的最低能量路径上的能量势垒(图中插入了五个过渡态的优化结构)。

火山(b)B掺杂g-C3N4的示意图。动力(e)B掺杂g-C3N4/SnS2的顶视图。

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网络(e)B掺杂g-C3N4/SnS2的能带结构图。Z-schemep-n型异质结构的优点是光生空穴的传输比n-n型异质结构更快,技术这对提高光催化剂的光催化活性非常重要。DFT计算获得了g-C3N4/SnS2和B掺杂g-C3N4/SnS2的带隙、有限PDOS、吸收光谱、功函数和电荷密度差异。

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研究发现B掺杂g-C3N4是一种p型光催化剂,公司其光催化能力优于g-C3N4。g-C3N4/SnS2和B掺杂g-C3N4/SnS2异质结构的功函数和电荷密度差异,北京表明其电荷转移机制是Z-scheme电荷转移机制。

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火山文献链接:AhighefficientZ-schemeB-dopedg-C3N4/SnS2photocatalystforCO2reductionreaction:Acomputationalstudy(JMCA,2018,DOI:10.1039/C8TA07352J)。

动力(d)g-C3N4/SnS2的能带结构图。观察到分离的Ni单原子(较亮的点),网络红色圆圈标明。

技术(B)样品Fe/N-C的HAADF-STEM显微照片(比例尺:5nm)。介绍了各种改变电催化剂表面和体积结构的方法,有限包括杂原子掺杂,有限空位控制,晶界,金属间化合物,金属-金属氧化物和金属-碳界面结构,以及它们在提高效率和选择性方面的作用。

公司(B)缺陷和界面对催化剂表面的影响。北京非均匀电荷分布(右下):缺陷限域电荷分布(左)与界面处电荷分布。

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